韩国专利优先审查迎来重大调整：（1）到目前为止，申请人可以使用韩国特许厅指定的现有技术检索专门机构出具的现有技术检索报告，就韩国专利和商标申请提出优先审查请求，但韩国特许厅于2023年12月19日公布自2024年1月1日起该方式的优先审查将不再施行；（2）自2023年11月1日起，与显示技术相关的发明和实用新型专利申请可以提出优先审查请求，为期一年。

根据现行《韩国特许法施行令》，如果一项申请属于特定类型，韩国特许厅可以进行优先审查，该类型包括：（i）根据专利审查高速公路（PPH）提交的发明专利申请；（ii）就第三方正在持续使用的发明要求保护的发明专利申请；（iii）就申请人正在实施或准备实施的发明要求保护的发明专利申请；以及（iv）由韩国特许厅指定的现有技术检索专门机构进行现有技术检索的发明专利申请。（实用新型、外观设计和商标同样存在与此相对应的审查规定。）

然而，随着优先审查申请案件数量的增加，韩国特许厅的审查负担愈加沉重，为实现审查水平的提质增效，韩国特许厅于2023年12月19日宣布对韩国特许法相关规定进行修订。新的规定中，上述（iv）类型的申请，即由韩国特许厅指定的现有技术检索机构进行现有技术检索的申请将不再适用优先审查，以便将审查资源更多地集中在尖端技术领域（例如半导体、二次电池、生物等），从而提供更加高效的快速审查服务。

与此相关地，韩国特许厅此前还宣布，自11月1日起，将韩国国内研发或生产的显示领域专利申请纳入优先审查对象，实施期限暂定为一年。该政策基于去年11月修订的《特许法施行令》，韩国特许厅厅长公布了可适用优先审查的尖端技术范围及请求期限。在全球显示领域专利纠纷日益激烈的背景下，此举旨在支持相关企业快速获得专利，优先审查范围已拓展至显示领域。具体而言，优先审查能够适用于显示领域的材料、零件、设备、制造或设计技术直接相关的申请，以及那些在韩国生产或准备生产显示相关产品和设备的公司所提出的申请，或韩国政府进行的显示技术国家研发项目的申请。

鉴于去年实施的半导体领域优先审查案件的平均审理时间仅为1.9个月，预计新政策将大大缩短韩国显示相关企业和研发机构进行专利审查所需的时间。